公司描述： 东方晶源主要产品为纳米级检测装备和光刻机与制程优化系列软件产品，其中光刻机优化和计算光刻软件，采用CPU+GPU 混合超算技术以及深度机器学习的建模和仿真技术，拥有创新的全芯片ILT（反向光刻）技术，使得掩膜优化（OPC）实现了从“艺术”到“科学”的跨越；另外纳米级检测设备产品为国内首台电子束缺陷检测设备，拥有精密的电子束扫面成像系统、晶圆装载与互锁系统和高真空工件台系统，配合自主研发的缺陷检测和自动分类(ADC)算法，提供完整的纳米级缺陷检测和分析解决方案。