公司描述： 创世威纳是一家真空等离子体设备研发商，主要生产物理气相沉积设备（磁控溅射、离子束溅射、电子束蒸发、热阻蒸发设备）、等离子体化学气相沉积设备(PECVD)、干法刻蚀设备（感应耦合等离子体刻蚀ICP、反应离子刻蚀RIE、离子束刻蚀IBE）等真空等离子体设备。产品广泛应用于半导体、泛半导体、涂层镀制、电子器件制造等相关领域及传统工业技术升级换代。致力于为客户提供产品设计、工艺、设备一体化解决方案。