聚焦半导体前道工艺设备研发，思锐智能完成数亿元B轮融资

近日，青岛四方思锐智能技术有限公司（以下简称“思锐智能”）完成了数亿元B轮融资。本轮融资由上汽集团战略直投、尚颀资本和鼎晖投资联合领投；招商局创投、上海金浦、新鼎资本、创新工场、华控基金、青创投等知名投资者跟投；海松资本、海澳芯科、鑫芯创投、珩创投资、同歌创投等老股东持续加持。

思锐智能将充分利用融资资本的加持，全面加速公司“双主业”布局发展，强化科技创新主体地位，加快关键核心技术攻关，持续提高产品竞争力及技术创新能力，努力创造更多具有自主知识产权的创新成果。完善产品体系布局和产品落地，不断提升产业链供应链韧性和安全水平。

公开信息显示，思锐智能成立于2018年，同年完成对ALD技术发源地——芬兰倍耐克公司100%股权的收购工作。思锐智能整合倍耐克海外前沿技术研发资源，开展ALD技术国内外联合研发与国内产业化落地工作，建立了完善的ALD产品体系，覆盖全球众多头部客户并在众多细分领域取得领先的市场竞争地位。

目前，思锐智能聚焦关键半导体前道工艺设备的研发、生产和销售，提供具有自主可控的核心关键技术的系统装备产品和技术服务方案。公司产品包括原子层沉积（ALD）设备及离子注入（IMP）设备，广泛应用于集成电路、第三代半导体、新能源、光学、零部件镀膜等诸多高精尖领域。

2022年，思锐智能推出全系列离子注入设备，以高能离子注入机为切入点开展研发，解决国内高端离子注入机”卡脖子“问题，逐步完成硅基及化合物半导体领域全系列机型的布局。

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