1.前5月中国集成电路生产同比增长25.1%；

2.北京华芯微未办理环境影响登记表备案手续被罚2万元；

3.光机所承担重大专项极紫外光刻关键技术研究通过验收；

4.香港应科院五年内致力研发国家级集成电路技术；

5.华为携手BeWhere 开发加拿大M-IoT感测应用

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1.前5月中国集成电路生产同比增长25.1%；

集微网消息，据工信部发布的2017年1-5月电子信息制造业运行情况，电子元器件行业生产继续保持稳定增长，其中集成电路同比增长达25.1%。

　　具体来看，电子元件行业生产保持平稳。1－5月份，生产电子元件16075亿只，同比增长14.9%。出口交货值同比增长11.8%，其中5月份增长10.7%。

　　电子器件行业生产则保持高速增长。1－5月份，生产集成电路599亿块，同比增长25.1%。出口交货值同比增长13.3%，其中5月份增长10.0%。

2.北京华芯微未办理环境影响登记表备案手续被罚2万元；

北京7月5日讯日前，北京市海淀区环保局发布海环保罚字﹝2017﹞304号行政处罚公示，北京华芯微半导体有限公司违反《中华人民共和国环境影响评价法》，被罚款2万元。

海环保罚字﹝2017﹞304号行政处罚决定书显示，北京市海淀区环保局于2017年5月23日对北京华芯微半导体有限公司位于海淀区杏石路23号的建设项目进行现场检查，发现该项目于2017年2月投入使用，属于填报环境影响登记表的建设项目，应当办理环境影响登记表备案手续。检查时，该单位尚未办理环境影响登记表备案手续。上述行为违反了《中华人民共和国环境影响评价法》第二十二条第四款的规定。

北京市海淀区环保局依据《中华人民共和国环境影响评价法》第三十一条第三款的规定，责令北京华芯微半导体有限公司备案，处2万元罚款。千龙网

3.光机所承担重大专项极紫外光刻关键技术研究通过验收；

　6月21日，“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”国家科技重大专项(02专项)实施管理办公室组织专家在中国科学院长春光学精密机械与物理研究所召开了“极紫外光刻关键技术研究”项目验收会。评审专家组充分肯定了项目取得的一系列成果，一致同意项目通过验收，认为该项目的顺利实施将我国极紫外光刻技术研发向前推进了重要一步。

　　极紫外（Extreme Ultraviolet，EUV）光刻是一种采用波长13.5nm极紫外光为工作波长的投影光刻技术，是传统光刻技术向更短波长的合理延伸。作为下一代光刻技术，被行业赋予拯救摩尔定律的使命。极紫外光刻光学技术代表了当前应用光学发展最高水平，作为前瞻性EUV光刻关键技术研究，项目指标要求高，技术难度大、瓶颈多，创新性高，同时国外技术封锁严重。

　　长春光机所自上世纪九十年代起专注于EUV/X射线成像技术研究，着重开展了EUV光源、超光滑抛光技术、EUV多层膜及相关EUV成像技术研究，形成了极紫外光学的应用技术基础。2002年，研制国内第一套EUV光刻原理装置，实现了EUV光刻的原理性贯通。2008年国家“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”科技重大专项将EUV光刻技术列为“32-22nm装备技术前瞻性研究”重要攻关任务。长春光机所作为牵头单位承担起了“极紫外光刻关键技术研究”项目研究工作，成员包括中科院光电技术研究所、中科院上海光学精密机械研究所、中科院微电子研究所、北京理工大学、哈尔滨工业大学、华中科技大学。

　　项目研究团队历经八年的潜心钻研，突破了制约我国极紫外光刻发展的超高精度非球面加工与检测、极紫外多层膜、投影物镜系统集成测试等核心单元技术，成功研制了波像差优于0.75 nm RMS 的两镜EUV 光刻物镜系统，构建了EUV 光刻曝光装置，国内首次获得EUV 投影光刻32 nm 线宽的光刻胶曝光图形。建立了较为完善的曝光光学系统关键技术研发平台，圆满完成国家重大专项部署的研究内容与任务目标，实现EUV 光学成像技术跨越，显著提升了我国极紫外光刻核心光学技术水平。同时，项目的实施形成了一支稳定的研究团队，为我国能够在下一代光刻技术领域实现可持续发展奠定坚实的技术与人才基础。

　　验收会上，长春光机所所长贾平诚挚地感谢了与会专家及各合作单位对项目的大力支持。贾平指出从时机及技术难度方面考虑，EUV项目的布局正处于窗口期，希望国家给予持续稳定的支持。鼓励项目参研单位进一步发挥EUV学科优势，鼓足勇气并肩奋斗，在后续支持下取得更好的成果。

　　02专项总体组技术总师、中科院微电子所所长叶甜春做总结发言。叶甜春强调，在国际上EUV光刻大生产基地已经建立的形势下，我国EUV光刻研究要继续坚持下去，面向未来产业工程化需求，着力点要放在必须掌握的核心技术和有可能取得创新的突破点。此外，叶甜春评价光刻机队伍是承担最核心、最高端、最艰巨任务的队伍，也是专项团队中最有战斗力、最能抗压、最值得信任的主力部队。鼓励项目团队肩负重大任务的责任与使命感，继续坚持勇攀高峰。

　　02专项光刻机工程指挥部总指挥、前科技部副部长曹健林到会并致辞。作为国内最熟悉EUV光刻的领域专家，曹健林对我国EUV光刻技术能力的提升感到欣喜，他认为中国已初步具备光刻技术的研发能力，并向着产业化目标前进，30年前的“中国光刻梦”正在逐步变为现实，通过我国光刻技术研发能力的建设初步树立了坚持“中国光刻梦”的信心。中国科学院网站

4.香港应科院五年内致力研发国家级集成电路技术

设立于香港应用科技研究院（应科院）之国家专用集成电路系统工程技术研究中心香港分中心（工程分中心），其管理委员会于2017年7月3日在南京举办第八次会议。是次会议由工程分中心管理委员会主席、应科院董事、香港城市大学副校长（行政）李惠光先生主持，会议给予与会成员机会讨论工程分中心在科研成果、创新及科技基金、业界收入、专利、标准化等方面的进展，并探讨未来发展方向、技术路线图及合作机会等。

工程分中心在2012年获国家科技部批准成立，旨在发展集成电路系统应用。多年来，应科院获工程分中心授权，开发了多项先进而创新的解决方案，包括窄带物联网（NB-IoT）、先进视频影像技术如：超高清及三维转换技术、低功耗蓝牙技术方案、功率电力电子模块、电子封装包括片上静电防护电路等。

工程分中心在全球第三代合作伙伴计划（3GPP）的窄带物联网标准制定中贡献良多，并推动窄带物联网的生态系统发展。工程分中心亦与多家领先机构如CEVA、是德科技（Keysight）及华为等合作。工程分中心在先进视频影像科技中取得多项成果，包括发展深度卷积神经网（DCNN）图像处理加速器；与万维数码合作研发三维影像科技，并于美国举行的2017年国际消费类电子产品展（CES）中共同演示该技术；与国家新闻出版广电总局广播科学研究院共建超高清电视技术联合实验室；及与智擎信息系统（上海）有限公司共建视觉智能联合实验室，专注研发与人工智能相关的先进人脸识别技术方案。

应科院获得国家第三代半导体联盟（CASA）及电机电子工程师学会（IEEE）的“国际宽禁带半导体技术路线图”（ITRS）的肯定，在功率电力电子模块的科研上与多家企业合作，例如中国电科、中船集团、新华三、广晟集团、中国中车、南方电网、华为、英飞凌、中兴通讯、中国南方航空、比亚迪及中华电力。而宽禁带半导体、三维全塑封结构、世界级的集成电源模块等都是该领域中的一些主要成果。

于2006年成立先进封装技术联盟是工程分中心的一个重要里程。由应科院领导的联盟目前有逾60名会员，他们来自科研及学术界、以及工业界包括晶圆厂、封装代工厂、材料及设备制造商、元件厂、设计公司、测试服务商。通过参与国际论坛，联盟促进封装技术的创新和发展，并带头将中国的封装技术行业提升至最先进的国际标准。

应科院首席科技总监杨美基博士说：“应科院的国家专用集成电路系统工程技术研究中心香港分中心致力提供先进而具成本效益的产品及解决方案，使企业能够提供最先进的设备和介面予消费者。工程分中心会继续发展有利于香港、中国内地及其他地区企业的创新技术。”

作者：香港应用科技研究院（应科院）来源：美通社

5.华为携手BeWhere 开发加拿大M-IoT感测应用

华为跟加拿大物联网方案供应商BeWhere，宣布共同开发移动物联网(M-IoT)传感器。据IoT Business News报导，鉴于低功耗广域(LPWA)感测对于未来智能城市不可或缺，华为联手BeWhere开发M-IoT低功耗广域感测应用，以便展开智能城市部署。

这是华为首次跟物联网方案供应商合作，共同开发M-IoT产品。这款LPWA传感器原型出自BeWhere之手，在今年上海世界移动通讯大会(MWC 2017 上海)展示，为BeWhere提供绝佳的世界舞台。

该款传感器采用华为Boudica 120芯片组，这是全球第一个3GPP窄频物联网(NB-IoT)商用芯片组，可以刺激终端使用者做更广泛的应用。2020年物联网装置数量将达到10亿个，开发商开始需要M-IoT LPWA等级的装置，来促进物联网应用。

华为加拿大地区副总裁Steve Lu表示，跟BeWhere合作开发移动物联网方案，可望让城市变得更聪明、更适宜人居。BeWhere执行长Owen Moore表示，很期待跟华为共同开发新一代移动物联网应用，以创新技术革新物联网产业。

在智能城市实现物联网LPWA方案的潜力，有赖生态系各个成员的共同合作，包括电信营运商、LWPA方案供应商等。这次华为跟BeWhere合作，反映出新一代的合作关系，有助于促进产业创新，建立更开放的生态系。DIGITIMES

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